Химические вещества
Изопропиловый спирт G3
Изопропиловый спирт G4
ФОСФОРНАЯ КИСЛОТА 85%
СЕРНАЯ КИСЛОТА 96%
КИСЛОТА СОЛЯНАЯ 37%
КИСЛОТА ФТОРИСТАЯ 49%
АЗОТНАЯ КИСЛОТА 69%
АЗОТНАЯ КИСЛОТА 70%
Фоторезист Microposit Ultra-I 123-0,8
Фоторезист позитивный Kehua Microelictronic Material CO KMP C7600A (3.84cp)
Фоторезист позитивный Kehua Microelictronic Material CO KMP C7600A (7,8cp)
Фоторезист Microposit S1813 G2 SP15
Фоторезист SYS1001 40 Cp
KRF фоторезист DK5030
KRF фоторезист DK2060 (5CP）
KRF фоторезист C7600A (7.8CP)
KRF фоторезист C7600A (10.5CP)
KRF фоторезист C7600A (5.9CP)
KRF фоторезист C6500
KRF фоторезист C6111A1
KRF фоторезист DK1081B6 4.5CP
KRF фоторезист DK2060 (7CP）
KRF фоторезист DK1089N
KRF фоторезист DK1087
KRF фоторезист DK1087B
Суспензия полирующая W100 (аналог Anji Microelectronics AEP T800)
Полировальная суспензия AC 300 (аналог Fujimi Incorporated Glanzox 3500)
Полировальная суспензия SSS-0022 (аналог Fujimi Incorporated Glanzox 3900S)
Полировальная суспензия SSS-1002 (аналог Fujimi Incorporated Glanzox 3900S)
Антиотражающее покрытие KF248（KARC922）
Антиотражающее покрытие KF248C（KARC801）
Суспензия CU100 полирующая
Суспензия STI 100 полирующая
Суспензия АС 100
Проявитель TMA238WA developer G3
Средство для удаления остатков после травления EKC 265
Другие фоторезисты по Вашему запросу
Другие кислоты по Вашему запросу
Другие спирты по Вашему запросу
Другие суспензии по Вашему запросу
.png)
Другие химические вещества по запросу
